EPFL的研究人员开发了一种新的高精度技术，使他们能够在二维材料上雕刻纳米图案。新技术使研究人员能够用微型手术刀打破原子之间的联系。该团队表示，使用传统光刻技术对材料进行结构化处理是非常困难的。
传统的光刻技术使用具有侵蚀性的化学物质或加速的电子或离子等带电粒子。问题是这些方法会破坏材料的特性。新技术使用局部的热源和压力源来精确切割材料。该团队将其技术描述为类似于剪纸艺术，但规模小得多。
该技术利用热能对基材进行改造，使其更加灵活。在某些情况下，它甚至可以变成一种气体。经过这个过程，二维材料可以更容易雕刻。在研究中，该团队使用了二碲化钼，这是一种类似于石墨烯的2D材料。这种材料的厚度不到一纳米。
二碲化钼放在聚合物上，会对温度变化产生反应。当聚合物受热时，它会升华，从固态变成气态。研究人员将一个尖锐的、纳米大小的尖端加热到180℃以上，使其与二维材料接触，然后施加一点力。
计算机驱动系统控制超快速加热和冷却过程以及尖端的位置。该系统允许研究人员进行预先定义的缩进，以创建用于纳米电子器件的纳米行程。科学家们说，他们的通用技术将在纳米电子学、纳米光子学和纳米生物技术领域发挥作用，使电子元件更小、更高效。